每日归档： 2022年1月12日

★★★★★★★★★★★★★★★★
本站购买电子书等资源使用支付宝，无需注册直接付费后（（弹出错误页面服务器忙，请稍等再试））不要关闭页面待页面电脑PC自动刷新（手机端需从支付宝页面按手机浏览器左上角返回键回到本页面，再自行手动刷新网页，推荐电脑访问）显示下载链接！不推荐edge等太高级的浏览器下载链接会阻拦，推荐迅雷、IDM等工具！请立刻及时下载（另存为）以免下次访问失效！如果有问题请在页面底部留言反馈（留下你的邮箱，仅限邮件交流，或在文章中更新交代回复）！部分带OCR版本的pdf书可以复制文字或搜索内容。下载失败了怎么办：点击这里
★★★★★★★★★★★★★★★★
对本站的直接交易方式不放心？你可以花1元购买美女短视频体验交易流程：点击这里，或者花2元预览资源截图或电子书内页：点击这里
PDF扫描版和图文版的区别，以及其他Word、mobi、txt、epub、azw3等各种电子版格式的选择：点击这里

本文链接：
https://read.jingjiufu.com/dzs-01101.html

计算机光刻与版图优化
文件大小：107.04MB

下载地址：

计算光刻与版图优化
本书由中国科学院微电子研究所计算光刻科研团队撰写，系统、全面地介绍了集成电路制造中的计算光刻与版图优化的理论和关键技术

开 本：16开
纸 张：胶版纸
包 装：平装
是否套装：否
国际标准书号ISBN：9787121402265
所属分类：
图书>考试>公务员考试>国家公务员考试

《计算光刻与版图优化》 集成电路技术丛书 韦亚一.pdf

商品详情

内容介绍

光刻是集成电路制造的核心技术，光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中，只有光刻工艺可以在硅片上产生图形，从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可以进一步提高光刻成像质量和工艺窗口的有效手段。基于光刻成像模型，计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化，对掩模上图形的形状和尺寸做修正，还可以从工艺难度的角度对设计版图提出修改意见，*终保证光刻工艺有足够的分辨率和工艺窗口。本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍， Continue reading

本文链接：
https://read.jingjiufu.com/dzs-01103.html

（彩图版+详细目录）文件大小：361.18MB

下载地址：

衍射极限附近的光刻工艺
入选2019年国家出版基金资助项目、“十三五”国家重点图书出版规划项目，一部极具深度和广度的光刻工艺技术著作，体系结构完整，内容系统全面，数据资料翔实，可读性强
作者:伍强 等出版社:清华大学出版社出版时间:2020年02月

开 本：16开
纸 张：胶版纸
包 装：平装-胶订
是否套装：否
国际标准书号ISBN：9787302537427
丛书名：高端集成电路制造工艺丛书
所属分类：
图书>工业技术>一般工业技术

《衍射极限附近的光刻工艺》 作者:伍强 电子书（pdf+word+epub+mobi+azw3版本）

编辑推荐

集成电路产业是信息技术产业的核心，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。光刻工艺是集成电路制造业核心工艺技术之一，在集成电路的诸多领域，扮演着不可或缺的重要作用。
《衍射极限附近的光刻工艺》以光刻工艺为主线，将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导，芯片制造的技术发展要求，以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，为读者展现一个整体的图景。
本书是一部极具深度和广度的光刻工艺技术著作，覆盖多学科领域，体系结构完整，内容系统全面，数据资料翔实，论述严谨，可读性强。本书的出版将帮助读者全面、深入地了解光刻技术，推动光刻技术各领域的交流和协同，促进人才培养、技术进步和产业发展。
伍强博士等作者是随着半导体产业的发展成长起来的资深光刻技术专家，不仅有深厚的学术根基，还有丰富的产业经验，他们带领的团队多年来在国内外多家*公司一线工作，掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角，将给读者带来启发和帮助。本书理论与实际相结合，紧跟国际技术前沿，填补国内外相关图书空白。 Continue reading

本文链接：
https://read.jingjiufu.com/dzs-01102.html

文件大小：278.12MB

下载地址：

纳米集成电路制造工艺（第2版）
国内首本关于纳米集成电路制造工艺的著作。半导体产业领军人物张汝京组织，*半导体代工厂一线科研人员编写，清华大学王志华教授作序推荐。

开 本：32开
纸 张：胶版纸
包 装：平装-胶订
是否套装：否
国际标准书号ISBN：9787302452331
所属分类：
图书>工业技术>电子 通信>微电子学、集成电路（IC）

《纳米集成电路制造工艺（第2版）》 .pdf

编辑推荐

超大规模集成电路的生产工艺，从“微米级”到“纳米级”发生了许多根本上的变化。甚至，从45nm缩小至28nm（以及更小的线宽）也必须使用许多新的生产观念和技术。张汝京先生是随着半导体产业的发展成长起来的领军人物，见证了几个技术世代的兴起与淘汰。他本人有着深厚的学术根基，以及丰富的产业经验，其带领的团队是多年来在*半导体代工厂一线工作的科研人员，掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角，相信会给读者带来启发和帮助。 Continue reading